E EPSON ENGENHARIA
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O que o INPI publicou
- Processo
- 822050170
- Apresentação
- Mista
- Natureza
- De serviço
- Depósito
- 03/03/2000
Linha do tempo na RPI
- 27/12/2016 · RPI 2399 · IPAS157Atenção
Arquivamento definitivo de pedido de registro por falta de pagamento da concessão
- 28/06/2016 · RPI 2373 · IPAS029Boa notícia
Deferimento do pedido
- 29/03/2016 · RPI 2360 · IPAS267Atenção
Exigência de mérito (em petição)
Protocolo: 18000029110 (24/07/2000) Petição (tipo): Oposição (SINPI P03)Requerente: SEIKO EPSON KABUSHIKI KAISHA(SEIKO EPSON CORPORATION)Detalhes do despacho:Tendo em vista a entrada em vigor, em março de 2014, da Resolução 107/2013, que estabelece novos procedimentos para exame do pedido de reconhecimento da proteção especial prevista no art. 125 da Lei no. 9.279/1996 (LPI), e, de acordo com o disposto no art. 12 da citada resolução e em seu parágrafo 5º, formula-se exigência para o opoente/impugnante, para que o requerimento de reconhecimento de alto renome se adeque aos termos descritos na mesma: protocole, junto ao registro da marca a qual se pretende o reconhecimento da proteção especial prevista no art. 125 da LPI, uma petição de manifestação com fundamento em alto renome. A análise de provas estará vinculada à documentação constante na presente oposição, ficando facultada ao titular a apresentação de documentos adicionais, a serem anexados à citada petição de manifestação, nos termos do art. 4º da Resolução 107/2013. Na ocasião do cumprimento desta exigência, indique o número do registro de marca no qual a manifestação com fundamento em alto renome fora protocolada. Caso a exigência não seja cumprida, não se conhecerá a alegação baseada no artigo 125 e será dado andamento ao exame da impugnação.
- 26/02/2002 · RPI 1625 · IPAS423Atenção
OPOSIÇÃO(ÕES) de terceiro(s) indicado(s), face à publicação / republicação do pedido de registro
OPON. SEIKO EPSON KABUSHIKI KAISHA (SEIKO EPSON CORPORATION) (JP)
- 23/05/2000 · RPI 1533 · IPAS009
PUBLICADO o pedido de registro, de acordo com o Art. 158 da LPI.