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ALLTECH

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O que o INPI publicou

Processo
823473040
Apresentação
Mista
Natureza
De serviço
Depósito
27/07/2001
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Linha do tempo na RPI

  1. 02/12/2008 · RPI 1978 · IPAS106Atenção

    ARQUIVADO o Pedido de Registro, com base na norma legal indicada, ENCERRANDO-SE A INSTANCIA ADMINISTRATIVA.

    PARÁGRAFO PRIMEIRO DO ART. 159 DA LPI.

  2. 15/04/2008 · RPI 1945 · IPAS136Atenção

    Cumpra a EXIGENCIA, observando o disposto no complemento.

    REAPRESENTE ESPECIFICAÇÃO, DE ACORDO COM A NCL (8) REIVINDICADA, OBSERVANDO OS EXEMPLOS CONTIDOS NA CLASSIFICAÇÃO INTERNACIONAL, UMA VEZ QUE A APRESENTADA NA PETIÇÃO INICIAL É GENÉRICA, INDICANDO A CATEGORIA DE PRODUTOS A COMERCIALIZAR. CUMPRA NA NCL (7).[PARA A OPOSTA]

  3. 25/02/2004 · RPI 1729 · IPAS402

    ANULADO(S) o(s) despacho(s) abaixo indicado(s).

    NÃO CONHECIMENTO DA PETIÇÃO (RJ) 056687 DE 26/12/01, PUBLICADO NA RPI 1717 DE 02/12/2003 POR ERRO MATERIAL.

  4. 25/02/2004 · RPI 1729 · IPAS423Atenção

    OPOSIÇÃO(ÕES) de terceiro(s) indicado(s), face à publicação / republicação do pedido de registro

    OPONs.: 1) FUNDAÇÃO APLICAÇÕES DE TECNOLOGIAS CRITICAS-ATECH (SP); 2) ALLTECH ASSOCIATES, INC (US); 3) ALTEC LANSING TECHNOLOGIES, INC. (US).RETIFICAÇÃO DA NOTIFICAÇÃO DE OPOSIÇÃO RPI 1717, DE 02/12/2003, PARA INCLUSÃO DO TERCEIRO OPONENTE.

  5. 02/12/2003 · RPI 1717

    NAO CONHECIDA A PETICAO, com base na norma legal indicada.

    PET.(RJ) 056687, DE 26/12/01, INCISO I DO ART. 219 DA LPI. INT. MONSEN, LEONARDOS & CIA.

  6. 02/12/2003 · RPI 1717 · IPAS423Atenção

    OPOSIÇÃO(ÕES) de terceiro(s) indicado(s), face à publicação / republicação do pedido de registro

    OPON : FUNDAÇÃO APLICAÇÕES DE TECNOLOGIAS CRITICAS-ATECH (SP)OPON : ALLTECH ASSOCIATES, INC (US)

  7. 23/10/2001 · RPI 1607 · IPAS009

    PUBLICADO o pedido de registro, de acordo com o Art. 158 da LPI.

Dados publicados pelo INPI na Revista da Propriedade Industrial. A MarcaSafe não é escritório de propriedade industrial e não emite parecer jurídico — a decisão final é do examinador do INPI.

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